China ha logrado un avance significativo en la fabricación de chips con el desarrollo de su primer equipo de litografía de vanguardia utilizando la tecnología de nanoimpresión (NIL). Este logro es el resultado de un esfuerzo titánico por parte de los fabricantes chinos de equipos de litografía, respaldados por subvenciones multimillonarias del gobierno.
Tecnología y comparación
La tecnología NIL, aunque no es nueva, ofrece una alternativa a las máquinas de litografía de ultravioleta extremo (UVE) diseñadas y fabricadas por ASML. La litografía NIL permite transferir patrones a la oblea de silicio sin la necesidad de un sistema óptico extremadamente complejo, lo que la hace más sencilla y económica, aunque más lenta. Los equipos de fotolitografía NIL son una alternativa a las máquinas UVE de ASML, que son los más sofisticados y caros que existen actualmente.
Inversión y desarrollo
El gobierno chino ha respaldado a empresas como Pulin Technology con subvenciones multimillonarias. En septiembre de 2023, se aprobó una partida de 41.000 millones de dólares para apoyar a las compañías que producen equipos para la fabricación de circuitos integrados. Pulin Technology ha enviado a uno de sus clientes su primer equipo de vanguardia utilizando la tecnología NIL.
Futuro y costos
Canon, que ha trabajado en NIL desde 2004, asegura que sus equipos pueden fabricar chips equiparables a los de 5 nm producidos con máquinas UVE. Además, un equipo NIL cuesta diez veces menos que una máquina UVE de ASML, lo que podría hacer que la tecnología NIL sea una opción más accesible para la fabricación de chips avanzados en el futuro.
Conclusión
El desarrollo de equipos de litografía NIL por parte de empresas chinas es un paso importante hacia la independencia tecnológica de China en la fabricación de chips. Aunque aún quedan desafíos por superar, este avance muestra el potencial de la tecnología NIL para competir con las máquinas UVE de ASML.
